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天津大学813半导体物理与器件2023年考研大纲变化信息
作者:佚名  文章来源:本站原创  点击数  更新时间:2022-9-24 17:55:43  文章录入:billlee  责任编辑:教研助理

天津大学813半导体物理与器件2023年考研大纲变化信息

天津大学813半导体物理与器件2022年大纲

天津大学813半导体物理或电介质物理2023年大纲

一、考试的总体要求

本课程为本专业主干专业基础课,要求考生掌握半导体物理的基本概念、二极管/双极型晶体管/场效应晶体管等器件的基本原理和应用。

二、考试的内容及比例

(一)考试内容要点:

第一部分:(50%

1、半导体能带结构、半导体有效质量、空穴、杂质能级;

2、热平衡状态下半导体载流子的统计分布,本征半导体和杂质半导体的载流子浓度,简并半导体和重掺杂效应;

3、半导体的导电性:载流子的漂移运动、迁移率、散射、强电场效应、热载流子的概念,半导体电阻率与温度、杂质浓度的关系;

4、非平衡载流子:非平衡载流子的产生、复合、寿命、扩散长度、准费米能级,爱因斯坦关系,一维稳定扩散,光激发载流子衰减;

5p-n结、MOS结构:平衡与非平衡p-n结特点及其能带图,pn结理想和非理想I-V特性,p-n结电容概念与击穿机制,p-n结隧道效应、肖特基势垒二极管;

6、金属与半导体接触特点及其能带图,金属半导体接触整流理论,欧姆接触;

7MOS结构表面电场效应,理想与实际MOS结构C-V特性;

第二部分:(50%

7、双极晶体管的基本结构,工作原理,少子分布,低频电流增益和非理想效应;

8、双极晶体管的等效电路模型,频率特性和开关特性;

9MOSFET的基本结构,工作原理,关键参数,电流电压关系,击穿特性;

10MOSFET的小信号模型和频率特性;

11MOSFET的非理想效应;

12、结型场效应晶体管的结构和基本工作原理;

13、光器件与功率器件的原理、特点与应用。

(二)比例:

两部分考试内容各占50%

三、试卷题型及比例

1、概念与问答题:40%

2、论述题:40%

3、计算与推导题:20%

四、考试形式及时间

考试形式均为笔试。考试时间为3小时(满分150)

五、参考书目

半导体物理学,(第七版),刘恩科、朱秉升、罗晋生编著,电子工业出版社。

半导体物理与器件,(第四版),赵毅强、姚素英等译,电子工业出版社。

晶体管原理与设计,陈星弼 张庆中等, 电子工业出版社。

一、考试的总体要求

本课程为本专业主干专业基础课,要求考生掌握半导体物理的基本概念、二极管/双极型晶体管/场效应晶体管等器件的基本原理和应用。

二、考试的内容及比例

(一)考试内容要点:

第一部分:(50%

1、半导体能带结构、半导体有效质量、空穴、杂质能级;

2、热平衡状态下半导体载流子的统计分布,本征半导体和杂质半导体的载流子浓度,简并半导体和重掺杂效应;

3、半导体的导电性:载流子的漂移运动、迁移率、散射、强电场效应、热载流子的概念,半导体电阻率与温度、杂质浓度的关系;

4、非平衡载流子:非平衡载流子的产生、复合、寿命、扩散长度、准费米能级,爱因斯坦关系,一维稳定扩散,光激发载流子衰减;

5p-n结:平衡与非平衡p-n结特点及其能带图,pn结理想和非理想I-V特性,p-n结电容概念与击穿机制,p-n结隧道效应、肖特基势垒二极管;

6、金属与半导体接触特点及其能带图,金属半导体接触整流理论,欧姆接触;

7MOS结构表面电场效应,理想与实际MOS结构C-V特性;

第二部分:(50%

1、双极晶体管的基本结构,工作原理,少子分布,低频电流增益和非理想效应;

2、双极晶体管的等效电路模型,频率特性和开关特性;

3MOSFET的基本结构,工作原理,关键参数,电流电压关系,击穿特性;

4MOSFET的小信号模型和频率特性;

5MOSFET的非理想效应;

6、结型场效应晶体管的结构和基本工作原理;

7、光器件与功率器件的原理、特点与应用。

(二)比例:

两部分考试内容各占50%

三、试卷题型及比例

1、填空与问答题:80%

 

2、计算与推导题:20%

四、考试形式及时间

考试形式均为笔试。考试时间为3小时(满分150)

五、参考书目

半导体物理学,(第七版),刘恩科、朱秉升、罗晋生编著,电子工业出版社。

半导体物理与器件,(第四版),赵毅强、姚素英等译,电子工业出版社。

晶体管原理与设计,陈星弼 张庆中等, 电子工业出版社。

变化情况:取消论述题

 

以上是天津大学813半导体物理与器件2022年与2023年考研大纲的对比情况,从对比文件可以看出,天津大学813半导体物理与器件的考研大纲发生变化。所以,报考该校的研友们需依据现状调整计划复习备考。